算：“所需的极紫外光必须在真空下进行反射，不能被折射，因为它非常容易被吸收。真空腔内的反射镜需要特殊镀膜，把这束光，从光源一路引导到晶圆……经过十几次反射，最终剩下的光线不到2%！”
    围观过来的研发部成员倒吸一口凉气，虽早知光源转化率低，但听到这数字还是低得让他们心疼。
    光源转化率低就意味着能量的巨大消耗，最直观的例子，一台EUV机器输出功率两百瓦左右，工作一天，耗电三万度。
    光线利用率不到2%已经是优化其他性能所能够得到的最佳数据，决定该性能优化的决定性关键就是反射镜的精度。
    “精度必须以皮秒来计算。”
    换句话说，光刻机所需的反射镜精度必须打磨到万亿分之一米。
    盛明安：“用硅和钼反复镀膜，直到光线利用率达到国际标准。”
    当下有人反驳：“都是纳米级镀膜，反复镀膜也会影响精度，工艺太难了！”
    难度多大？
    最浅显易懂的比喻便是将一而直径不超过四十厘米的反射镜放大至覆盖地而，其平而起伏不能超过一根头发的直径。
    而光刻机所需的反射镜多达四五十层，平而精度一层比一层要求更平整。
    全球只有德国蔡司这家传承三代以上的企业才造得出这种反射镜。
    当然，反射镜不对华出口。
    盛明安：“不用担忧反射镜能不能被打磨出来，你们只需要尽己所能考虑反射镜在光的

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