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第47章 蒲伟才(3/5)
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的领先优势,开发出的euv光源系统,最终能源利用率达到了5。
    较之于艾思迈euv光刻机的2,能源利用率提升了一倍还多!
    这意味着光刻机在使用的过程中,能节省一半多的电,减少产生大量的热量,系统的稳定性能提高不少。
    也就是说,在euv光刻机领域,蒲伟才这位牛人,以及他带领的技术团队,四大核心技术中,他们攻破了两个。
    剩下的两大核心技术中。
    组装技术方面,魔都微电子公司近年已取得了巨大突破,具备了将10万多个零件组合成一台光刻机,并让其长期稳定工作下去的能力。
    唯独在镜头这块,国内还无法取得突破,因为艾思迈公司euv光刻机所用的镜头,并不是机器制造出来的,而是镜头制造公司的工程师们,用20年时间,用几十万个小时精心打磨出来的,是工匠精神做到极致的产物!
    华国想要追赶,但几乎找不到这种能耐心坐下来打磨几十年,能够把一面镜片,打磨到相当于一个蓝星大小的物体上,顶多只有1毫米凸起程度的工匠大师。
    不过卫明表示:镜头方面的问题,交给他来解决就行。
    利用小黑,别说打磨到“蓝星面积、毫米凸起”的程度,只要时间够,就是纳米级的程度都能做到。
    镜头这块,完全交给卫明解决即可。
    所以如今最重要的事情,就是把蒲伟才这个牛人招募过来,拉入到自己的公司中。
    然而牛人不

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