两者需始终同步，误差在2纳米以下。两个工作台由静到动，加速度跟导弹发射差不多。
    三，光源。
    制造euv需要极高的能量。euv能被空气吸收，所以光刻环节必须耗电保持真空环境。更夸张的是，euv还能被透镜吸收，所以只能用十几次面透镜，通过不断反射将光源集中。
    每反射1次，euv的能量就会损失3成。十几次反射后，到达晶圆的光线理论上只剩下2。从能连赶上看，寒国某半导体企业曾经说过，极紫外光euv的能源转换效率只有002左右。
    四、镜头。
    光刻机的中心镜头对于镜头要求较高，位于光刻机中心的镜头，由20多块锅底大的镜片串联组成，需要高纯度透光以及高抛光。
    目前，符合光刻机要求的镜片还无法靠机器制造，先进光刻机镜头全部由手工打磨而成，能够达到这一标准的公司并不多，全世界范围内也就一两家，全部是西方老牌公司。
    而这四大类的核心技术中。
    卫明了解到这位牛人蒲伟才跟他的技术团队，在短短的十年时间里，一共攻克了两项。
    分别是双工台技术与光源技术。
    他带领团队研发出的高精密双工台，控制精度也达到了2纳米，跟国外最先进水平，达到了同等先进的程度，抹平了技术差距，可以说是打成了平手。
    而在光源技术方面，蒲伟才也是只用了短短几年时间，利用国内在激光技术领域的领先地位，以及材料方面

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