表面之间的气隙以提高光学解析精度。”
    “这个我知道，你说的湿式光刻，是浸润式光刻，这个概念在80年代曾有人提出过。但这个概念很原始，距离可实现的方法还很远。”张中谋点头道。
    “对，为了优化浸润式光刻系统，我在理论上重新定义并导出了关键性能指标和缩放公式，为极高解析度的三维浸润式光刻光学系统，规范了必须遵行的缩放定律。”
    林苯坚道：“我还在实验室的研究发现，想要完善浸润式光刻，就是要克服液体中微气泡的形成。还必须要开拓在热力学极限下，经由水而衍射的光刻工序。”
    张中谋赫然动容道：“如果你的这个设想全部解决，那么在科学和工程上，就证实了湿式光刻方法可用于最先进的IC制程，可以将IC技术节点从65nm持续降低，打破65nm的技术壁障。”
    “对，这样摩尔定律又可以生效了。至少可以再持续延伸了五代以上。”林苯坚信心满满地道。
    “哈哈，好哇！”
    张中谋大笑，“就是要你的这种底气，你来看看这份资料。”
    他指着中芯突破90nm技术的资料给林苯坚看，“如果技术停滞，后来者就很容易追上来。为了保持我们的技术领先，我决定马上研发湿法光刻技术。由你牵头负责成立技术团队，争取一年内出成果。咱们积电不发威，什么内地小公司都敢追上来了。”
    林苯坚临危受命却大喜，他立正道：“保证完成任务。”
    “

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