监林苯坚，1970年获得美国俄亥俄州立大学电机工程博士，在IBM一干就是22年，专攻高成像技术。
    2000年，林苯坚加入了积电，提出一系列突破性的创新，研发湿法光刻技术。
    这项技术和如今的干法光刻技术方案背道而驰，林苯坚还被圈内人吐槽是“挡在航空母舰面前不自量力的飞鸟”。
    此方案也遭到了如今“光刻机霸主”东洋佳能和尼康的抵制。林苯坚刚刚提出即遭反对，心情自然是郁闷无比，只得暗自研究相关工艺。
    “张总，您找我？”林苯坚进门，就看到张中谋在看资料沉思。
    “苯坚呐，你来了。”张中谋闻言抬头，喜道：“快请坐。”
    待到林苯坚小心地坐下后，张中谋笑道：“苯坚啊，你上次申请的湿法光刻技术项目，我研究后很有兴趣，你能对我再讲讲你的看法吗？”
    “啊……”
    林苯坚闻言又惊又喜，惊的是德高望重的张中谋亲自研究了他的项目方案，喜的是自己终于得到了发挥的机会。
    他整理了一下思路，缓缓道：“传统的干式光刻法，自1959年发明‘平面积成电路’以来，被持续使用了四十年，然而受限于基本光学衍射，在90年代后期，用该方法制造特征尺寸小于65纳米的芯片面临无法逾越的瓶颈。”
    林苯坚坚定地道：“我预见昂贵的干式光刻技术将进入死角，所以建议使用湿式光刻，该方法是一种新的光刻工序，透过液体介质置换透镜和晶圆

本章还未完，请点击下一页继续阅读>>>