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第595章 【新的技术痛点——光刻胶】(2/6)
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多个日日夜夜的奋战,不为别的,就为了争一口气。
    几万名工程师、研究员、几百家厂商配合,集中火力朝着一个点不断的发起火力冲击,而罗晟在这两千多个地球日照循环里,仅仅在极紫外光刻机设备的研发上就投入超过了1000亿美元,是ASML公司在极紫外光刻机研发投入的五倍之多。
    但毫无疑问,这一切都是值得的。
    被调来负责紫星光刻机项目的总监李淳胜道:“与业界2012年约25瓦的光源相比较而言,250瓦光源意味着十倍的进步。而ASML的工程师在简报EUV生产经济学时很无奈的表示:250瓦光源功率永远都是明年的目标,哈哈。”
    国产半导体一直不如外国人,国内相关从业者的信心在很长一段时间是备受打击的,这一次的突破不但是切切实实的成果突破,也给国产半导体事业的有志之士们莫大的信心。
    信念这个东西听起来有点玄,尤其是从事科技工作,但有时候真的很重要,这是士气问题。
    紫星光刻机成功先于ASML公司的NXE搞定,虽然对方迟早会解决这个问题,并且也不会等太久了,但这在半导体设备领域绝对是里程碑式的事件。
    因为这将打破全球半导体产业链的格局,也必将会推动整个行业进入全新的时代。
    罗晟看着在场的技术员们,他能看得出每一个人此刻的内心都很难平静,道:“外面总有人一直说我们技术开发不可能成功,我们的人才不如外国人。确实花了很

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