有人被判了刑。
    这样的风险在罗晟的可接受范围内，他也不会真的指望队伍里就一个坏人都没有，有坏人不怕，怕是有坏人没有找出来，不过现在的队伍是干净的了。
    他们也许都有自己的小九九，罗晟不指望他们有为事业无私献身的崇高理想，这也是不现实的乌托邦想法。
    但没关系，拿市场以及共同的利益维系着就行了，拿到了既得利益就会为这份利益尽心尽力。
    在场的一位来自友商的技术负责人走到罗晟旁边，“罗先生，光刻机的主要性能指标，支持基片的尺寸范围、分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等技术痛点目前都已经解决了。”
    罗晟点点头，问道：“光源系统方面的技术问题呢？”
    对方立即回道：“也基本解决了。”
    罗晟：“基本？那就是还没完全解决了，尽快解决。”
    值得一提的是，EUV光源系统的组成，光源由光的产生、光的收集、光谱的纯化与均匀化三大单元组成，相关的工作元器件主要包括大功率CO2、激光器、多层涂层镜、负载、光收集器、掩膜版、投影光学系形成等离子体，等离子利用多层膜反射镜多次反射净化能谱，从而获得13.5纳米的EUV光。
    仅仅是这么一个光源的问题就要牵涉到了十多家厂商来研发配套，足见这玩意制造难度之高了，仅仅是砸足够的钱还是次要的，技术更是重要，国内相关的厂商实际上又没有核心科技。


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