原来的位置精准的印刷出下一层图像，EUV是较为不同的一个。”
    “我坚信这个技术可以实现，是未来的趋势，并且该技术会成为芯片制造商们最划算的选择。所以我的想法是接下来不惜成本合力做出一个EUV光刻机样机，争取在2015年左右实现这个目标，使其他研究者们可以测试这种方法。”
    不一会儿，胜利精密的掌门人高总提出了不同的看法，他说道：“但是罗总，据我所知EUV技术是非常困难的。在使用波长近乎为X光的射线去蚀刻的时候，物理学知识并不能为工程师们帮上多少忙。”
    与会的其它人也不由得点点头，极紫外光刻技术在上个世纪90年代后期就已经被提出来了，如今过去了十多年，行业大拿ASML公司也毫无进展，其难度可想而知。
    末了，众人不由得看向了罗晟，诧异的发现善于创造奇迹的年轻世界首富却是一脸轻松，这不禁让大家好奇了。
    罗晟调出了一组数学模型，不用他示意众人已经纷纷看向了大屏幕，而罗晟有条不紊的说道：
    “高总说的不无道理，所以我最终选择了13.5纳米波长射线，这种光可以轻易地被很多材料吸收，即使我们呼吸的空气也是完全的黑色，因为它也吸收了最后一点射线，我很早就意识到了EUV光刻机只能在真空下运行，晶圆则通过一个气闸进出光刻机。”
    罗晟补充道：“之后接踵而来的就是让射线弯曲的问题了，EUV也能被玻璃吸收，所以在设备中改变其走向

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