们，ASML的高管神色肃穆, 在场没人比他更具危机感, 因为全球没有哪家光刻机可媲美ASML的EUV。
    他们一?家独大，实行科技霸权, 如果盛明安的13.5nm光源系统设备真的攻克了, 那?就意味着他们将失去这?独特的霸权地位, 不得不与人平分市场，更甚他们还落后了华国的光刻机技术！
    其他人诸如日本的天?野浩，台积电的副总, 华芯国际、华兴科技、华电科等知名老?总，以及邱博士和庄博士都全神贯注听?盛明安的演讲。
    无论是ASML还是华国的蓝河科技拥有高阶极紫外光刻机对除了美国、荷兰以外的国家而言其实都一?样, 一?家独大的局面被打破自然再好不过，但这?也意味着他们将来有可能会失去华国这?个大市场。
    华国每年芯片进口量超出全球芯片市场的一?半，这?占比巨大的进口量意味华国是一?个巨大的芯片市场，而生?产顶尖芯片的美国、日本和韩国都可以瓜分这?个市场。
    一?旦这?个市场自给自足，都将是他们的损失。
    可这?不意味着他们不能继续与华国合作，不意味他们不能投资蓝河科技，利益从来不会被封锁，封锁技术只是为了独占更大的利益。
    封锁技术不能获取利益时?，他们就会选择开?放共享。
    盛明安：“光学系统光源收集采用Mo/Si多层膜制备反射镜，对波长13.5nm的EUV光的反射率可以达到70%。根据Mo原子和Si

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