六十年代研究员 作者:遇见1992

    

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    元旦的时候陆见他们跑去光学研究所参加了光刻机还有蚀刻机的项目组的会议，会议上人很多，他们计算机研究所领头的是霍所长，他们这次也是要出不少力的，不过这次研究主要出力的人还是光学研究所这边的人，陆见他们主要负责的是控制程序这一块。

    会议开得非常热闹，才进行没多久就有人吵起来了，不过他们说的都是光学相关的技术，和陆见他们的没有很大关系，跟着陆见过来的不少人都有些听不懂。陆见之前看过不少光学相关的书，倒是差不多能听懂，但如果让他说出个什么来的话就完全不行了。只能耐心仔细的听着，毕竟这是一个项目组，不少研究都是有联系的，多一些了解对后面的研究也有好处，会让他们设置的控制程序更合适。

    第262章

    光刻机的研究要比蚀刻机复杂多了, 所以这个研究的重心还是放在光刻机的研究上面的。

    这一次光学研究所的目标还是非常大了，想直接将步进扫描投影曝光机，准备将集成电路图形的线宽缩小到0.35 μm的节点。波长能达到193nm, 光学光刻分辨率争取能达到70nm的极限，目标很宏大, 自然需要的时间也不少。

    限制芯片大小的主要关机就是在于光刻系统能获得的分辨率有关, 而提升分辨率最有效的方法就是减小照射光

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