和9纳米，现在正在调试8纳米级别。”高致远兴奋的回道。
    而来支援神光仪器的刘瑞新此时也是晕乎乎的，他之前只知道神光仪器在研发X射线光刻机，却没有想到神光仪器已经做到这个地步。
    国内的上沪中微电子的情况，光机所一清二楚，毕竟双方经常有合作，现在国内可以实现的光刻机，其精度最多只有40纳米。
    而这个名不见经传的神光仪器，却一步登天，成功将光刻精度推进到10纳米之内，一举反超阿斯麦公司超紫外光光刻机的13.7纳米。
    现在国内的蚀刻机并不弱于外国，也就是说神光仪器的光刻机，一下填补了华国芯片制造行业的两个致命弱点，光刻机和光刻胶。
    显然神光仪器前途不可限量。