术，也就是从那时开始，台积电开始大幅领先于联电。
    2004年，台积电成为第一家采用浸没式光刻工艺生产90n芯片的厂商。
    2005年，台积电开始风险试产65n制程工艺为多个客户大规模生产芯片；
    2011年，全球首家推出28n通用工艺技术。
    可以看出来，半导体加工技术如今是高速发展，每年可以提升40以上的制程精度。
    台积电已经可以制造40n制程的芯片，但是辉煌半导体如今还是05微米制程，还无法发挥作用，需要长时间的投资。
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    辉煌cpu已经委托芯片加工公司进行加工制造，采用90n制程，方浩为了支持国产半导体加工商，直接把订单给了芯国际。
    芯国际成立于2000年，于2001年在上海投产8英寸厂，并于2005年实现90n量产。
    本来打算让辉煌半导体自己制造cpu，但是辉煌半导体没有这个能力，只能制造那些普通的芯片。